ASML申请用于光刻设备的直接致动的图案形成装置专利，促使进行掩模版的用于半导体光刻的非接触式精确移动_资讯

ASML申请用于光刻设备的直接致动的图案形成装置专利，促使进行掩模版的用于半导体光刻的非接触式精确移动

创始人

2026-08-15 16:22:12

0次

国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“用于光刻设备的直接致动的图案形成装置”的专利，公开号CN122580614A，申请日期为2024年12月。

专利摘要显示，现有的光刻设备使用用于保持掩模版的掩模版夹具以及用于掩模版载物台的具有致动器和位置传感器的卡盘。这在掩模版载物台卡盘上需要大量质量和基础结构。有利地，描述了用于光刻设备的新的掩模版运动控制系统和方法。与现有的光刻设备形成对比，新的系统和方法利用被配置为联接到掩模版的可磁致动目标。电磁致动器被配置为向该可磁致动目标施加磁力，以用于将图案形成装置悬置在光刻设备中的空间中，并且致动该可磁致动目标以促使进行掩模版的用于半导体光刻的非接触式精确移动。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

图案显示进行市场投资装置设备模版导体专利磁致动掩模版荷兰有限公司致动器光刻

上一篇：科易成新材料申请用于多层微流控芯片的注塑一体化模具及成型方法专利，解决了在多层微流控芯片的热压键合过程中由于压头与芯片接触面不完全平行导致键合压力加载时产生水平方向分力使已经精确对准的上层芯片相对于下层芯片发生微米级的相对滑移的技术问题

下一篇：长江电力取得大电流套管芯体工装架专利，可完成套管芯体的装夹

ASML申请用于光刻设备的直接致动的图案形成装置专利，促使进行掩模版的用于半导体光刻的非接触式精确移动

相关内容

热门资讯