中芯京城申请光刻胶洗边方法以及半导体结构的形成方法专利,提高制作半导体结构的工艺良率
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2026-07-11 23:22:10
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国家知识产权局信息显示,中芯京城集成电路制造(北京)有限公司;北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司;中芯国际集成电路制造(上海)有限公司申请一项名为“光刻胶洗边方法以及半导体结构的形成方法”的专利,公开号CN122362749A,申请日期为2025年1月。

专利摘要显示,本申请提供一种光刻胶洗边方法以及半导体结构的形成方法,光刻胶洗边方法包括:在晶圆表面旋涂光刻胶层后,对所述晶圆边缘的光刻胶层进行曝光,所述曝光的区域为自所述晶圆最外侧边缘向内0至0.1mm。本申请技术方案可以减少制作所述半导体结构工艺中的污染物颗粒,提高制作所述半导体结构的工艺良率。

天眼查资料显示,中芯京城集成电路制造(北京)有限公司,成立于2020年,位于北京市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本500000万美元。通过天眼查大数据分析,中芯京城集成电路制造(北京)有限公司参与招投标项目43次,专利信息39条,此外企业还拥有行政许可246个。

北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司,成立于2017年,位于北京市,是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本20000万人民币。通过天眼查大数据分析,北方集成电路技术创新中心(北京)有限公司共对外投资了1家企业,参与招投标项目23次,财产线索方面有商标信息11条,专利信息671条,此外企业还拥有行政许可126个。

中芯国际集成电路制造(上海)有限公司,成立于2000年,位于上海市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本244000万美元。通过天眼查大数据分析,中芯国际集成电路制造(上海)有限公司共对外投资了4家企业,参与招投标项目120次,财产线索方面有商标信息232条,专利信息15056条,此外企业还拥有行政许可484个。

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来源:市场资讯

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