鼎新至测申请应用于半导体材料与工艺开发的zeta电势测量装置及方法专利，显著提升了测量的适应性、精度与效率_资讯

鼎新至测申请应用于半导体材料与工艺开发的zeta电势测量装置及方法专利，显著提升了测量的适应性、精度与效率

创始人

2026-05-27 23:17:35

0次

国家知识产权局信息显示，鼎新至测（北京）科技有限公司申请一项名为“一种应用于半导体材料与工艺开发的zeta电势测量装置及方法”的专利，公开号CN122084722A，申请日期为2026年3月。

专利摘要显示，本发明公开了一种应用于半导体材料与工艺开发的zeta电势测量装置及方法，属于表面电化学测量与半导体材料表征技术领域。该装置包括样品旋转单元用于固定并旋转待测样品，液体输送单元包括工作电极、泵和液体容器，工作电极通过泵连接液体容器，用于将待测液体输送至待测样品表面形成液体层，电极测量单元包括参考电极，参考电极设置在待测样品的周侧，用于检测液体层中因样品旋转产生的流电势，电极测量单元连接信号处理单元，信号处理单元用于根据流电势计算样品表面的zeta电势。本发明实现了在半导体复杂液体中对单一、不规则样品的高信噪比测量，无需已知德拜长度，且液体暴露时间短，显著提升了测量的适应性、精度与效率。

天眼查资料显示，鼎新至测（北京）科技有限公司，成立于2024年，位于北京市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本500万人民币。通过天眼查大数据分析，鼎新至测（北京）科技有限公司专利信息2条，此外企业还拥有行政许可1个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

zeta 电极单元半导体样品显著提升测量液体适应性北京 zeta电势

上一篇：硫磺制酸专用恒电位仪，和普通恒电位仪有什么区别？

下一篇：东派数码取得带有LED照明功能的移动电源专利，避免外力冲击导致移动电源损坏的情况出现

鼎新至测申请应用于半导体材料与工艺开发的zeta电势测量装置及方法专利，显著提升了测量的适应性、精度与效率

相关内容

热门资讯