新微技术申请红外传感器桥臂结构专利，桥臂结构稳定且不易变形_资讯

新微技术申请红外传感器桥臂结构专利，桥臂结构稳定且不易变形

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2026-03-19 23:49:14

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国家知识产权局信息显示，上海新微技术研发中心有限公司申请一项名为“一种红外传感器桥臂结构、具有桥臂结构的芯片及其制备方法”的专利，公开号CN121677947A，申请日期为2025年11月。

专利摘要显示，一种红外传感器桥臂结构、具有桥臂结构的芯片及其制备方法，涉及一种红外传感器桥臂结构，包括：上膜层、金属层以及下膜层；上膜层应力为正，下膜层应力为负；上膜层与下膜层应力绝对值相同，均为100MPa。本申请通过调整化学气相沉积工艺的功率、频率、温度以及反应腔压力，制备上膜层应力为正，下膜层应力为负，且上下膜层应力绝对值均为100MPa的桥臂结构，桥臂结构稳定且不易变形；并通过调整化学气相沉积工艺的沉积时间，改变上下膜层的厚度，上膜层厚度小于下膜层厚度，桥臂的变形率最低。

天眼查资料显示，上海新微技术研发中心有限公司，成立于2013年，位于上海市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本144416万人民币。通过天眼查大数据分析，上海新微技术研发中心有限公司共对外投资了21家企业，参与招投标项目492次，财产线索方面有商标信息52条，专利信息843条，此外企业还拥有行政许可47个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

企业显示技术投资上海红外传感器应力结构专利桥臂红外传感器上膜层膜层

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