江苏山水半导体申请含石墨烯纳米片晶圆抛光液专利,抛光后晶圆无明显微划伤
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2026-03-07 19:57:42
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国家知识产权局信息显示,江苏山水半导体材料有限公司申请一项名为“一种含石墨烯纳米片的晶圆抛光液及其制备工艺”的专利,公开号CN121610193A,申请日期为2025年12月。

专利摘要显示,本发明涉及研磨液技术领域,具体为一种含石墨烯纳米片的晶圆抛光液及其制备工艺,其由如下重量份原料组成:磨料基体;石墨烯改性磨料;氧化剂;络合剂;金属腐蚀抑制剂;pH调节剂;分散稳定剂;界面改性剂;缺陷修复剂;缓蚀增效剂;润湿性调节剂;抗团聚剂;去离子水。本发明通过石墨烯改性磨料的引入及多组分协同设计,兼具高抛光效率、低腐蚀速率与优异的分散稳定性,相较于传统抛光液,Cu/Co腐蚀速率降低60%以上,铜表面粗糙度Ra≤0.5nm,抛光后晶圆无明显微划伤,石墨烯纳米片的润滑特性与机械研磨特性协同,使铜/钴去除速率比稳定在1:1±0.1,有效避免碟形坑、蚀坑缺陷。

天眼查资料显示,江苏山水半导体材料有限公司,成立于2020年,位于无锡市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本3236.04万人民币。通过天眼查大数据分析,江苏山水半导体材料有限公司参与招投标项目6次,专利信息52条,此外企业还拥有行政许可13个。

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来源:市场资讯

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