北方华创申请工艺腔室及半导体工艺设备专利，避免产生紊流导致膜厚均匀性下降_资讯

北方华创申请工艺腔室及半导体工艺设备专利，避免产生紊流导致膜厚均匀性下降

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2026-02-02 11:48:36

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国家知识产权局信息显示，北京北方华创微电子装备有限公司申请一项名为“一种工艺腔室及半导体工艺设备”的专利，公开号CN121442980A，申请日期为2024年7月。

专利摘要显示，本申请公开了一种工艺腔室及半导体工艺设备，工艺腔室包括：腔室本体、进气结构和气流角度调整件；腔室本体沿第一方向的两侧分别设有传片口和排气口；进气结构设置于腔室本体上方靠近传片口的一侧，进气结构内设有沿第二方向延伸的匀流腔，匀流腔设有进气口和多个匀流孔，腔室本体的顶板设有与多个匀流孔分别连通的多个进气孔；气流角度调整件的一端可转动地连接于腔室本体的顶板内侧，并且连接位置在第一方向上位于传片口与进气孔之间，另一端为自由端；气流角度调整件用于当进气孔的气体入射至气流角度调整件上时改变气体的传输方向。本申请利用气流角度调整件对膜厚进行调节，不需要增加进气流量，避免产生紊流导致膜厚均匀性下降。

天眼查资料显示，北京北方华创微电子装备有限公司，成立于2001年，位于北京市，是一家以从事电气机械和器材制造业为主的企业。企业注册资本114153.708311万人民币。通过天眼查大数据分析，北京北方华创微电子装备有限公司共对外投资了7家企业，参与招投标项目1365次，财产线索方面有商标信息67条，专利信息5000条，此外企业还拥有行政许可340个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

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