盛美半导体申请炉管设备专利,保证装载区内的低氧氛围不被破坏
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2026-02-02 11:48:23
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国家知识产权局信息显示,盛美半导体设备(上海)股份有限公司;盛帷半导体设备(上海)有限公司申请一项名为“炉管设备”的专利,公开号CN121442982A,申请日期为2024年7月。

专利摘要显示,本申请公开了一种炉管设备,涉及半导体制造设备领域,炉管设备包括:工艺管,其内部具有工艺区;加热组件,设置于所述工艺管的外周,用于对所述工艺管加热;壳体,所述壳体的内部设置有装载区和第一隔断区,所述第一隔断区处的所述壳体上设置有密封件,所述装载区用于容纳晶舟,所述装载区被配置为能够与所述工艺区和所述第一隔断区分别连通;风机组件,用于使气体在所述装载区和所述第一隔断区内循环,或,将所述装载区内的气体排入至所述第一隔断区内;冷却组件,靠近所述密封件设置,用于对所述密封件进行冷却。通过增加冷却组件,有利于提高密封件的使用寿命,保证装载区内的低氧氛围不被破坏。

天眼查资料显示,盛美半导体设备(上海)股份有限公司,成立于2005年,位于上海市,是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本48016.4789万人民币。通过天眼查大数据分析,盛美半导体设备(上海)股份有限公司共对外投资了16家企业,参与招投标项目172次,财产线索方面有商标信息28条,专利信息671条,此外企业还拥有行政许可31个。

盛帷半导体设备(上海)有限公司,成立于2019年,位于上海市,是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本162234.85万人民币。通过天眼查大数据分析,盛帷半导体设备(上海)有限公司参与招投标项目8次,专利信息55条,此外企业还拥有行政许可91个。

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来源:市场资讯

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