盛剑半导体取得一种燃烧系统专利，确保反应室内的压力始终处于稳定状态_资讯

盛剑半导体取得一种燃烧系统专利，确保反应室内的压力始终处于稳定状态

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2025-12-27 16:08:22

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国家知识产权局信息显示，上海盛剑半导体科技有限公司取得一项名为“一种燃烧系统”的专利，授权公告号CN223726370U，申请日期为2024年12月。

专利摘要显示，本实用新型提供了一种燃烧系统，涉及废气处理技术领域，该燃烧系统包括反应室以及位于反应室内的分隔板。其中，反应室设有位于分别分隔板的两侧的入口和出口，且分隔板与反应室的内壁配合形成用于对废气导流的U型通道。在上述基础上，反应室还设有靠近于入口的第一补气口和靠近于出口的第二补气口，即，反应室还设有位于废气的流通路径上且分别设于分隔板的两侧的第一补气口和第二补气口。需要说明的是，第一补气口和第二补气口均用于通入压缩空气，以便于依次与废气发生反应，实现分级燃烧，确保反应室内的压力始终处于稳定状态，废气可以得到稳定的燃烧处理。

天眼查资料显示，上海盛剑半导体科技有限公司，成立于2021年，位于上海市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本11750万人民币。通过天眼查大数据分析，上海盛剑半导体科技有限公司参与招投标项目6次，专利信息123条，此外企业还拥有行政许可34个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

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