国家知识产权局信息显示,上海华虹宏力半导体制造有限公司申请一项名为“新型静电保护器件结构”的专利,公开号CN122602577A,申请日期为2026年4月。
专利摘要显示,本发明公开了一种新型静电保护器件结构由N阱和P阱构成,N阱和P阱相邻排列且二者侧面之间留有间距;N阱中包含有第一N型扩散区和靠P阱更近的第一P型扩散区,P阱中包含有第二P型扩散区和靠N阱更近的第二N型扩散区;N阱和P阱之间横跨有混合扩散区,其内包含有多个N型注入区以及多个P型注入区,P型注入区和N型注入区都横跨N阱和P阱,P型注入区和N型注入区呈交错不重叠排布,且相邻的P型注入区和N型注入区之间的间距相等。本发明通过调整P型注入区和N型注入区之间的间距可以实现降低静电保护结构的触发电压的效果,以满足静电保护结构低触发电压的应用需求,提高器件的抗静电能力。
天眼查资料显示,上海华虹宏力半导体制造有限公司,成立于2013年,位于上海市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本2046092.7759万人民币。通过天眼查大数据分析,上海华虹宏力半导体制造有限公司共对外投资了8家企业,参与招投标项目934次,财产线索方面有商标信息39条,专利信息7901条,此外企业还拥有行政许可464个。
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来源:市场资讯