目前7nm以下的所有先进工艺的芯片，都是通过EUV光刻机制造出来的。

一定程度上来讲，EUV光刻机，是先进芯片的引擎，没有这个EUV，先进芯片就制造不出来，这也是ASML为何能够一直强大的原因，因为EUV只有它一家能造。

ASML也在不断的升级EUV，从NA=0.33的EUV，升级到了NA=0.55的 High NA EUV，后续可能还会有NA=0.77的 Hype NA EUV。

不过，最近有芯片专家称，别看EUV地位独特，但是从芯片发展的角度来看，EUV目前已经成为先进芯片的最大瓶颈了，特别是ASML+EUV，成为了先进芯片发展的一个障碍。

芯片制造的本质，其实是在硅片上不断“打印”越来越微小的电路结构，而这个“打印”，就是通过EUV光刻机，再加上刻蚀机等设备协同工作。

为了让“打印”越来越精细，提高这个“打印”的分辨率，光刻机用上了更高功率EUV光源、更大的反射镜系统、更复杂的真空环境、更高精度的运动控制。

而这些因素，导致EUV光刻机造价昂贵，现在的High NA EUV一台高达4亿美元，已经让绝大部分的晶圆企业用不了。

同时一台EUV光刻机，包含了超过10万个精密零件，全球数千家供应商参与系统集成，并且整机重量超过180吨。

这也导致接下来，对于EUV光刻机而言，任何一个改进，都是一件非常难的事情。

再加ASML将全球EUV光刻机的供应链都绑在了战车上，其它厂商，几乎难以搞定这些供应链，全部是ASML说了算。

ASML为了自己的利益，已经不允许其它形式的EUV光刻机出现，也不会允许另外的路线出现，来挑战EUV光刻机的地位。

所以，现在的芯片发展，就只能去依赖ASML继续研发EUV光刻机，但这条路，越来越难以走通，所以先进芯片接下来的发展，真的是被ASML+EUV限制住了。

目前虽然有企业在研发新的路，比如NIL、BLE等等，但因为有ASML在前面，一旦这些路线有了一定的起色，说不定ASML都会出手干扰，更是会联合既得利益者出手封锁。

所以芯片专家才称，ASML+EUV事实上，已经成为了先进芯片前进的最大障碍，这也是目前为何摩尔定律失效的原因之一，因为大家都只能押宝在ASML的EUV光刻机上了。