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北方华创申请半导体工艺设备专利，提升晶圆良品率

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2026-07-07 19:10:57

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国家知识产权局信息显示，北京北方华创微电子装备有限公司申请一项名为“半导体工艺设备”的专利，公开号CN122344713A，申请日期为2025年1月。

专利摘要显示，本申请公开了一种半导体工艺设备，涉及半导体制备技术领域，所公开的半导体工艺设备包括工艺内管、工艺外管和环形支撑件，环形支撑件设于工艺外管底部的开口处，且与工艺外管的端面相连，工艺内管设于工艺外管和环形支撑件之内，工艺内管与工艺外管以及环形支撑件之间具有环形过流通道，工艺内管可通过其顶部的开口与环形过流通道连通。环形支撑件的周向间隔设置有多个第一排气孔，多个第一排气孔分别与环形过流通道连通。在多个第一排气孔的均匀引导下，可以使得通入工艺内管中的清洗反应气体均匀分布于环形过流通道中并与膜层充分反应，从而能够减少环形过流通道的局部区域出现膜层堆积以及颗粒浓度超标的问题，进而提升了晶圆的良品率。

天眼查资料显示，北京北方华创微电子装备有限公司，成立于2001年，位于北京市，是一家以从事电气机械和器材制造业为主的企业。企业注册资本114153.708311万人民币。通过天眼查大数据分析，北京北方华创微电子装备有限公司共对外投资了7家企业，参与招投标项目1443次，财产线索方面有商标信息73条，专利信息5861条，此外企业还拥有行政许可340个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

企业显示投资华创通道导体环形工艺专利北京外管内管流通道

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