国家知识产权局信息显示,新加坡优尼山帝斯电子私人有限公司申请一项名为“使用半导体元件的半导体内存装置”的专利,公开号CN122349216A,申请日期为2026年1月。
专利摘要显示,使用半导体元件的半导体内存装置中,具有与基板分离且相对于基板沿水平方向伸延的p层,以第一栅极绝缘层包覆p层的一部分,具有覆盖栅极绝缘层的一部分的第一栅极导体层,具有与栅极绝缘层分离且覆盖p层的一部分的第二栅极绝缘层,具有覆盖栅极绝缘层的一部分的第二栅极导体层,在被栅极导体层和栅极导体层包夹的p层的一部分的部分具有属于第一杂质层的n+层和属于第二杂质层的n+层,栅极导体层作为栅极而发挥功能,n+层、n+层的一者作为源极、另一者作为汲极而发挥功能,以进行MOSFET操作,且在第一杂质层连接位元线、在第二杂质层连接源极线、在第一栅极导体层连接字符线、在第二栅极导体层连接板线,通过操作各者的电压使FX-RAM的内存动作进行。
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来源:市场资讯