拓荆创益取得升降机构及半导体生产设备专利，避免升降机构发生倾斜_资讯

拓荆创益取得升降机构及半导体生产设备专利，避免升降机构发生倾斜

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2026-06-20 01:24:29

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国家知识产权局信息显示，拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司取得一项名为“一种升降机构及半导体生产设备”的专利，授权公告号CN224378203U，申请日期为2025年6月。

专利摘要显示，本实用新型提供一种升降机构及半导体生产设备，升降机构包括多组驱动组件和多组辅助组件，多组驱动组件沿待升降件的周向间隔设置，并与待升降件移动连接；辅助组件包括齿条和齿轮，齿条沿驱动组件的高度固设于驱动组件的一侧，齿轮与待升降件转动连接并与齿条啮合连接。本申请通过在驱动组件的一侧连接齿条，并在待升降件上连接齿轮，当待升降件在多组驱动组件的推动下进行升降运动时，待升降件推动齿轮在齿条上滑动，由于齿轮齿条有很高的的传动精度，而且可以承载一定的动力，使多组驱动组件在升降过程中保持水平同步的运动，避免升降机构发生倾斜，从而造成卡滞或部件损坏、设备宕机的现象，以降低维护成本并且提高升降机构的使用寿命。

天眼查资料显示，拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司，成立于2023年，位于沈阳市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本50000万人民币。通过天眼查大数据分析，拓荆创益（沈阳）半导体设备有限公司参与招投标项目28次，财产线索方面有商标信息1条，专利信息526条，此外企业还拥有行政许可18个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

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