国家知识产权局信息显示,三星显示有限公司取得一项名为“沉积掩模和电子装置”的专利,授权公告号CN224062868U,申请日期为2025年4月。
专利摘要显示,本公开涉及沉积掩模和电子装置。所述沉积掩模包括:掩模框架,具有单元开口并且包括限定所述单元开口的肋区;隔膜,包括分别位于所述单元开口上方的单元区和在所述肋区上的网格区;以及多个第一标尺图案,在所述掩模框架的厚度方向上与所述肋区重叠,所述多个第一标尺图案位于所述网格区处并且沿着横穿所述隔膜的第一方向以第一间隙彼此间隔。
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来源:市场资讯