连科半导体取得单晶炉真空环境清灰装置专利，维持真空管道清洁_资讯

连科半导体取得单晶炉真空环境清灰装置专利，维持真空管道清洁

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2026-03-14 01:58:56

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国家知识产权局信息显示，连科半导体有限公司取得一项名为“一种单晶炉真空环境中的清灰装置”的专利，授权公告号CN223991156U，申请日期为2025年2月。

专利摘要显示，本实用新型提供了一种单晶炉真空环境中的清灰装置，包括：真空管道，真空管道右端设置有真空腔，真空腔右侧设置有支架，支架右侧固定安装有减速电机，真空管道内部转动安装有搅拌杆，且搅拌杆上安装有搅拌叶片。该种单晶炉真空环境中的清灰装置，通过设置有真空腔、减速电机、搅拌叶片、密封件、联轴器一、联轴器二和磁流体等结构，减速电机提供动力，经联轴器精准传递至搅拌叶片，搅拌叶片旋转将灰尘聚集以便清理，维持真空管道清洁，密封件与磁流体配合，保障真空腔的密封，防止外界气体进入，维持真空度，避免影响晶体生长，同时，各部件协同工作减少能量损失和故障风险，降低维护成本，确保单晶炉稳定高效运行。

天眼查资料显示，连科半导体有限公司，成立于2023年，位于无锡市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本11312.5万人民币。通过天眼查大数据分析，连科半导体有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目5次，财产线索方面有商标信息17条，专利信息118条，此外企业还拥有行政许可9个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

企业连科投资真空清灰装置环境单晶叶片专利真空腔联轴器单晶炉清灰装置

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