国家知识产权局信息显示,无锡中微晶园电子有限公司申请一项名为“一种可降低串扰的黑硅光电四象限结构及制备方法”的专利,公开号CN121487391A,申请日期为2025年10月。
专利摘要显示,本发明属于功率半导体工艺技术领域,特别涉及一种可降低串扰的黑硅光电四象限结构及制备方法。包括N‑低掺杂体硅区;N+正面高浓度掺杂区,对称布设于所述N‑低掺杂体硅区的正面两侧;P型掺杂区,靠近每侧所述N+正面高浓度掺杂区的内侧布设;N+背面高浓度掺杂区,布设于所述N‑低掺杂体硅区的背面;黑硅区域,均匀形成于四象限内的所述N+背面高浓度掺杂区内,以形成陷光结构;串扰隔阻区,形成于四象限内相邻的黑硅区域之间;钝化层和背面金属膜层,由内至外依次填充于所述黑硅区域和所述串扰隔阻区上;正面金属电极。本发明解决了目前常规硅光电四象限探测器近红外波段响应差,像素间存在串扰的问题。
天眼查资料显示,无锡中微晶园电子有限公司,成立于2004年,位于无锡市,是一家以从事其他制造业为主的企业。企业注册资本1196万人民币。通过天眼查大数据分析,无锡中微晶园电子有限公司共对外投资了1家企业,参与招投标项目45次,财产线索方面有商标信息1条,专利信息106条,此外企业还拥有行政许可9个。
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