北方华创申请半导体工艺设备及其半导体腔室专利，提升反应气体在反应空间内的均匀性_资讯

北方华创申请半导体工艺设备及其半导体腔室专利，提升反应气体在反应空间内的均匀性

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2026-01-30 12:43:58

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国家知识产权局信息显示，北京北方华创微电子装备有限公司申请一项名为“半导体工艺设备及其半导体腔室”的专利，公开号CN121402378A，申请日期为2025年11月。

专利摘要显示，本公开提供一种半导体工艺设备及其半导体腔室。该半导体腔室包括腔室本体，包含反应空间和抽气空间；进气组件，设置于所述腔室本体的顶部，且具有与所述腔室本体的内部连通的出气口；基座和遮蔽件，所述基座、所述遮蔽件以及所述进气组件围成反应空间，所述遮蔽件具有将所述反应空间与所述腔室本体的抽气空间连通的多个抽气孔；所述遮蔽件包括同轴设置的内周侧壁和外周侧壁，所述内周侧壁的直径小于所述外周侧壁的直径；至少一个所述抽气孔分布在所述内周侧壁。

天眼查资料显示，北京北方华创微电子装备有限公司，成立于2001年，位于北京市，是一家以从事电气机械和器材制造业为主的企业。企业注册资本114153.708311万人民币。通过天眼查大数据分析，北京北方华创微电子装备有限公司共对外投资了7家企业，参与招投标项目1364次，财产线索方面有商标信息67条，专利信息5000条，此外企业还拥有行政许可340个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

企业显示气体投资华创本体导体微电子反应专利腔室半导体遮蔽件述腔室

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