求是创芯申请进气连接装置以及外延设备专利，提高外延晶圆电阻率的片间重复均匀性_资讯

求是创芯申请进气连接装置以及外延设备专利，提高外延晶圆电阻率的片间重复均匀性

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2026-01-29 12:42:44

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国家知识产权局信息显示，浙江求是创芯半导体设备有限公司申请一项名为“进气连接装置以及外延设备”的专利，公开号CN121407214A，申请日期为2024年7月。

专利摘要显示，本申请公开了一种进气连接装置以及外延设备，该进气连接装置包括连接本体和连接板，连接本体内开设有进气通道、进气槽和进气口，进气槽连通进气通道与进气口，进气通道还用于与外部气源连通；连接板覆盖于进气槽的槽口并与连接本体连接，连接板形成有凸台结构，凸台结构至少部分位于进气槽内，凸台结构与进气槽之间形成有间隙，间隙与进气口连通，间隙提供从进气槽至进气口的均匀流径。通过上述设置，可以提高外延晶圆电阻率的片间重复均匀性，以有利于提高外延晶圆的批次质量。

天眼查资料显示，浙江求是创芯半导体设备有限公司，成立于2021年，位于杭州市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本4320.9877万人民币。通过天眼查大数据分析，浙江求是创芯半导体设备有限公司参与招投标项目9次，财产线索方面有商标信息9条，专利信息99条，此外企业还拥有行政许可2个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

企业显示求是投资进气口装置设备外延电阻率专利连接板凸台进气槽

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