华力集成申请版图及半导体结构专利，单位阻值偏差仅有5%_资讯

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2026-01-29 10:16:17

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国家知识产权局信息显示，上海华力集成电路制造有限公司申请一项名为“版图及半导体结构”的专利，公开号CN121419233A，申请日期为2025年10月。

专利摘要显示，本发明提供了一种版图及半导体结构，应用于半导体技术领域。在本发明中，通过缩小多晶硅图形在第一方向和第二方向上的最小重复单元间距，从而在缩小现有浮栅电阻的面积的同时，工艺流程跟现有技术保持一致，且不影响有效结构单元，单位阻值偏差仅有5%，实现了结构优化的目的。

天眼查资料显示，上海华力集成电路制造有限公司，成立于2016年，位于上海市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本2960000万人民币。通过天眼查大数据分析，上海华力集成电路制造有限公司参与招投标项目2094次，专利信息2682条，此外企业还拥有行政许可397个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

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