证券之星消息,根据天眼查APP数据显示四方光电(688665)新获得一项发明专利授权,专利名为“一种长光程光学气体吸收池及气体传感器”,专利申请号为CN202310724711.2,授权日为2026年1月27日。
专利摘要:本发明公开一种长光程光学气体吸收池及气体传感器,长光程光学气体吸收池包括第一凹面反射镜、第二凹面反射镜、入射孔、出射孔以及中间反射镜,其中:第一凹面反射镜的反射面与第二凹面反射镜的反射面同向设置;入射孔设置于第一凹面反射镜非中心处;中间反射镜与第一凹面反射镜和第二凹面反射镜组成反射腔体,用于在第一凹面反射镜的反射面与第二凹面反射镜的反射面之间导光;入射光线以非平行于第一凹面反射镜的主轴的角度从入射孔射入,在反射腔体内多次反射后从出射孔射出。该光学气体吸收池不但可以在有限的气体池体积下实现更长光程,满足对低浓度气体的监测需求,同时镜片利用率高、结构简单、尺寸小,易加工,有效降低了成本。
今年以来四方光电新获得专利授权1个,较去年同期减少了50%。结合公司2025年中报财务数据,2025上半年公司在研发方面投入了5813.69万元,同比增22.58%。
通过天眼查大数据分析,四方光电股份有限公司共对外投资了9家企业,参与招投标项目65次;财产线索方面有商标信息45条,专利信息224条,著作权信息22条;此外企业还拥有行政许可37个。
数据来源:天眼查APP
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