宇脉电子申请一种硅片清洗装置与清洗方法专利，能够使污染物被充分清洗，提高清洗效率_资讯

宇脉电子申请一种硅片清洗装置与清洗方法专利，能够使污染物被充分清洗，提高清洗效率

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2026-01-18 00:08:26

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国家知识产权局信息显示，广州宇脉电子科技有限公司申请一项名为“一种硅片清洗装置与清洗方法”的专利，公开号CN121358207A，申请日期为2025年10月。

专利摘要显示，本发明属于硅片加工技术领域，尤其涉及一种硅片清洗装置与清洗方法，一种硅片清洗装置，包括清洗箱，清洗箱内固接有多个竖杆，多个竖杆中位于左侧的两个竖杆之间滑动连接有一个移动座，位于右侧的两个竖杆之间滑动连接有另一个移动座，两个移动座之间连接有移动板，移动板上开设有多个固定槽，清洗箱内固接有多个气管，每个气管上均开设有多个气孔，清洗箱内连接有限制结构，限制结构能够使上浮气泡的初始体积减小，所述的一种硅片清洗装置用于清洗硅片的清洗方法，该方法包括以下步骤：步骤一：将硅片插入移动板的固定槽中，启动电动推杆推动夹板与辅助板共同夹紧硅片，能够使上浮气泡具有较小体积，使污染物被充分清洗，提高清洗效率。

天眼查资料显示，广州宇脉电子科技有限公司，成立于2014年，位于广州市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本500万人民币。通过天眼查大数据分析，广州宇脉电子科技有限公司参与招投标项目1次，财产线索方面有商标信息10条，专利信息46条，此外企业还拥有行政许可10个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

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