武汉华星光电申请显示面板及显示装置专利，提高第一导通部的蚀刻均匀性_资讯

武汉华星光电申请显示面板及显示装置专利，提高第一导通部的蚀刻均匀性

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2026-01-17 17:09:36

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国家知识产权局信息显示，武汉华星光电技术有限公司申请一项名为“显示面板及显示装置”的专利，公开号CN121357996A，申请日期为2025年11月。

专利摘要显示，本申请公开了一种显示面板及显示装置；显示面板包括基板、间隔层、半导体层以及第一导电层；间隔层设置于基板上，间隔层中形成有多个凹槽；半导体层设置于间隔层远离基板的一侧，半导体层包括填充部；第一导电层设置于半导体层远离间隔层的一侧，并包括多个第一导通部；多个凹槽包括第一子槽，第一子槽与第一导通部沿显示面板的厚度方向上至少部分重叠，填充部设置于第一子槽内，填充部与第一导通部沿显示面板的厚度方向上至少部分重叠；本申请可以减小第一子槽所产生的段差，提高第一导通部所处位置的膜层平坦度，有效提高了第一导电层的蚀刻速率的均匀性，可以提高第一导通部的蚀刻均匀性，提高了显示面板的显示效果。

天眼查资料显示，武汉华星光电技术有限公司，成立于2014年，位于武汉市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本1191853.7749万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉华星光电技术有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目680次，财产线索方面有商标信息4条，专利信息5000条，此外企业还拥有行政许可263个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

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