金融界2024年4月23日消息,据国家知识产权局公告,京东方科技集团股份有限公司取得一项名为“一种超声成像器件及超声设备“,授权公告号CN114259254B,申请日期为2021年12月。
专利摘要显示,本公开实施例提供了一种超声成像器件及超声设备,超声成像器件包括:PI衬底层、设置于PI衬底上的多个阵元单元以及设置在多个阵元单元上的封装保护层;其中,各个阵元单元之间通过软填充材料隔离;阵元单元由下至上依次包括:下电极、凹形腔结构、振膜和上电极,下电极、凹形腔结构、振膜和上电极的横截面形状相同,凹形腔结构、振膜的横截面大小相同,上电极的横截面小于下电极的横截面,其中,下电极设置在靠近PI衬底层一侧,上电极设置在靠近封装保护层一侧,凹形腔结构的剖面结构为凹形,内部为中空腔室。本公开实施例的超声成像器件各个阵元单元之间互不影响,探头尺寸和形态可以随意设计,且不需要耦合剂就可以清晰呈像,性能较好。
来源:金融界