国家知识产权局信息显示,长鑫科技集团股份有限公司申请一项名为“半导体结构及其制备方法”的专利,公开号CN121218582A,申请日期为2024年6月。
专利摘要显示,一种半导体结构及其制备方法,该半导体结构包括:衬底;位于衬底上的第一存储单元和第二存储单元,第一存储单元和第二存储单元沿第一方向排布,第一方向平行于衬底所在平面;第一存储单元包括第一源漏区、第一沟道区和第二源漏区,第一沟道区沿第一方向延伸,第一源漏区和第二源漏区位于第一沟道区沿第二方向的同侧;第二存储单元包括第三源漏区、第二沟道区和第四源漏区,第二沟道区沿第一方向延伸,第三源漏区和第四源漏区位于第二沟道区沿第二方向的同侧;第一位线,第一位线沿竖直方向延伸,第一位线位于第一源漏区沿第一方向的一侧且与第一源漏区电连接;第二位线,第二位线沿竖直方向延伸,第二位线位于第三源漏区沿第一方向的一侧且与第三源漏区电连接。上述半导体结构可以提高半导体结构的集成度。
天眼查资料显示,长鑫科技集团股份有限公司,成立于2016年,位于合肥市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本6019279.7469万人民币。通过天眼查大数据分析,长鑫科技集团股份有限公司共对外投资了18家企业,参与招投标项目1085次,财产线索方面有商标信息236条,专利信息625条,此外企业还拥有行政许可34个。
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来源:市场资讯