京东方华灿光电申请改善电流集中的发光二极管及其制备方法和显示面板专利，提升发光二极管的可靠性_资讯

京东方华灿光电申请改善电流集中的发光二极管及其制备方法和显示面板专利，提升发光二极管的可靠性

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2025-12-05 12:09:53

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国家知识产权局信息显示，京东方华灿光电（浙江）有限公司申请一项名为“改善电流集中的发光二极管及其制备方法和显示面板”的专利，公开号CN 121057377 A，申请日期为2025年11月。

专利摘要显示，本公开提供了一种改善电流集中的发光二极管及其制备方法和显示面板，属于光电子制造技术领域。该发光二极管包括外延层，所述外延层的顶面具有多个间隔排布的载流子通道区，以及各所述载流子通道区之间的钝化区，所述载流子通道区的载流子浓度高于所述钝化区的载流子浓度。本公开实施例能改善外延层的表面电流过度集中而导致严重发热的问题，提升发光二极管的可靠性。

天眼查资料显示，京东方华灿光电（浙江）有限公司，成立于2014年，位于金华市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本380450万人民币。通过天眼查大数据分析，京东方华灿光电（浙江）有限公司共对外投资了3家企业，参与招投标项目43次，专利信息1021条，此外企业还拥有行政许可42个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

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