8月28日晚间，中微公司(688012)发布2025年半年度报告。财报显示，上半年公司实现营业收入约49.61亿元，同比增长约43.88%。其中，2025年上半年刻蚀设备销售约37.81亿元，同比增长约40.12%；LPCVD设备销售约1.99亿元，同比增长约608.19%；公司针对先进逻辑和存储器件制造中关键刻蚀工艺的高端产品新增付运量显著提升，在先进逻辑器件和先进存储器件中多种关键刻蚀工艺实现大规模量产。

同期实现归属于母公司所有者的净利润约7.06亿元，同比增长约36.62%，主要原因为：2025年上半年营业收入增长43.88%下，毛利较去年增加约5.52亿元；上半年公司研发投入约14.92亿元，同比增长约53.70%，上半年研发投入占营收比例约30.07%，同期科创板上市公司的平均研发投入水平为10%-15%；对外股权投资于2025年上半年产生公允价值变动收益和投资收益合计约1.68亿元，较2024年上半年亏损的0.08亿元增加约1.76亿元。

中微公司主要从事高端半导体设备及泛半导体设备的研发、生产和销售。其中，公司的等离子体刻蚀设备已应用在国际一线客户从65至5纳米及其他先进的集成电路加工制造生产线及先进封装生产线。公司的MOCVD设备在行业领先客户的生产线上大规模投入量产，公司已成为世界排名前列的氮化镓基LED设备制造商。公司近两年新开发的LPCVD薄膜设备和ALD薄膜设备，目前已有多款产品进入市场并获得大批量重复性订单。

创新始终是企业发展的核心引擎。“新产品开发周期已从过去三至五年缩短至两年甚至更短，目前公司在研项目覆盖六大类设备、二十余款新品，包括新一代CCP及ICP等离子体刻蚀设备、金属刻蚀、晶圆边缘刻蚀、多种导体薄膜沉积设备、硅和锗硅外延EPI设备、新一代等离子体源的PECVD设备及量检测设备等。”公司相关负责人介绍。

具体来看经营情况，据披露，作为公司的核心产品，等离子体刻蚀设备在今年上半年销售收入同比增长约四成，占公司总收入的75%以上。目前，中微公司刻蚀设备已覆盖95%以上的刻蚀应用，技术能力延伸至5纳米及更先进制程，市场占有率持续提升并不断收到领先客户批量订单。

薄膜沉积设备方面，2025年上半年，中微公司LPCVD（低压化学气相沉积）和ALD（原子层沉积）设备销售收入同比增长608.2%，成为业绩增长的新引擎。钨系列产品已全部通过关键存储客户端量产验证，并获批量订单。同期，公司开发出应用于先进逻辑器件的金属栅系列产品：ALD氮化钛，ALD钛铝，ALD氮化钽产品，已完成多个先进逻辑客户设备验证，在满足先进逻辑客户性能需求的同时，设备的薄膜均一性，污染物控制和生产效率均达到世界先进水平。该系列设备已付运到先进逻辑客户端进行验证，核准推进顺利。

泛半导体市场方面，公司MOCVD设备在氮化镓基LED市场持续领先，并逐步拓展至碳化硅、氮化镓功率器件及Micro-LED等新兴领域。今年公司已付运首台红黄光LED专用的MOCVD设备至国内领先客户开展生产验证。

并且，凭借强有力的研发团队和深厚的客户关系，中微公司还将整合产业链上下游和相关资源作为另一发力点，并积极考虑投资和并购。按规划，在今后的五到十年，中微公司计划通过有机生长和外延扩展，逐步覆盖半导体高端设备的50%到60%。

从行业前景来看，根据国际半导体产业协会（SEMI）预测，2025年全球半导体设备市场规模将达1210亿美元，并有望在2026年增长至1390亿美元。面对市场需求的持续增长，中微公司位于上海临港和南昌高新区的两大生产研发基地产能稳步提升，为公司业绩持续增长提供支撑。位于临港滴水湖的10万平方米总部研发大楼，预计将在2025年底建成，届时将进一步强化公司研发与运营资源的协同整合。此外，为更好地服务客户与市场，中微公司已于广州增城区和成都高新区启动新的研发生产基地建设工作，进一步扩展产能布局，旨在为全球客户提供更加高效、稳定的供应链保障。

展望未来，中微公司相关负责人表示，公司将坚持三维立体发展战略，并坚持有机生长和外延扩展相结合的基本策略，以实现高速、稳定、健康和安全的高质量发展。中微的长期愿景是，在规模、产品、竞争力和客户满意度上，成为全球第一梯队的半导体设备公司。