华虹半导体申请静电吸盘温度监控方法专利，能够更加准确地反应静电吸盘的温度均一性_资讯

华虹半导体申请静电吸盘温度监控方法专利，能够更加准确地反应静电吸盘的温度均一性

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2026-09-12 19:21:46

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国家知识产权局信息显示，华虹半导体（无锡）有限公司申请一项名为“静电吸盘的温度监控方法”的专利，公开号CN122742657A，申请日期为2026年5月。

专利摘要显示，本申请公开了一种静电吸盘的温度监控方法，包括：将控片传送至刻蚀设备的工艺腔室中，使控片吸附在工艺腔室中的静电吸盘上，该控片用于量测刻蚀设备的刻蚀速率，该控片包括晶圆和形成于晶圆上的测试薄膜；在预设的射频环境下通入惰性气体对静电吸盘进行升温处理，升温处理的时间为预设时间，该预设时间大于稳态时间，稳态时间是静电吸盘在刻蚀过程中从开始升温到温度稳定的时间；进行刻蚀；将控片传送出工艺腔室，通过控片上测试薄膜被刻蚀的厚度确定刻蚀设备的刻蚀速率；根据刻蚀速率确定静电吸盘的温度均一性是否存在问题。本申请实施例能够使控片在静电吸盘达到温度稳定后进行测量，得到的刻蚀速率能够更加准确地反应静电吸盘的温度均一性。

天眼查资料显示，华虹半导体（无锡）有限公司，成立于2017年，位于无锡市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本253685.180069万美元。通过天眼查大数据分析，华虹半导体（无锡）有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目2953次，专利信息2165条，此外企业还拥有行政许可119个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

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