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玖璋芯科技申请半导体光放大器专利，提高了放大增益

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2026-09-12 00:14:36

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国家知识产权局信息显示，杭州玖璋芯科技有限责任公司申请一项名为“一种半导体光放大器”的专利，公开号CN122739907A，申请日期为2026年7月。

专利摘要显示，本发明涉及光通信技术领域，公开了一种半导体光放大器，其包括基底（1），bex层（2），基底（1）上设有用于调控光场限制因子的bex层（2），过度层（3），在bex层（2）上设有过度材料组成的过度层（3）；量子阱层（4），过渡层上设有四元化合物材料组成的量子阱层（4）；脊波导层（5），量子阱层（4）上设有脊波导层（5）。本发明设计的半导体光放大器其结构通过bex层主动控光、过渡层缓冲缺陷、脊波导层优化集成结构，实现了低损耗、高功率转换效率、易集成的半导体光放大器，且提高了放大增益。

天眼查资料显示，杭州玖璋芯科技有限责任公司，成立于2025年，位于杭州市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本111.111111万人民币。通过天眼查大数据分析，杭州玖璋芯科技有限责任公司。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

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