国林科技：子公司国林半导体现有产品满足臭氧在半导体薄膜沉积等工艺制程需求
创始人
2026-09-09 20:04:15
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有投资者在互动平台向国林科技提问：“第三代半导体的专用薄膜沉积设备，公司是否有涉及？”
针对上述提问，国林科技回应称：“尊敬的投资者，您好。臭氧在半导体行业的应用范围主要包括薄膜沉积、湿法清洗、表面处理、氧化物生成等工艺制程，子公司国林半导体现有产品可以满足上述工艺制程的应用需求。关于公司的产品研发情况、详细产品技术信息请查阅公司官方网站或公司定期报告进行了解。感谢您对的关注。”
来源：市场资讯
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