苏州镓耀半导体取得薄膜沉积反应系统专利，为薄膜沉积质量提供了可调节窗_资讯

苏州镓耀半导体取得薄膜沉积反应系统专利，为薄膜沉积质量提供了可调节窗

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2026-08-29 16:19:30

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国家知识产权局信息显示，苏州镓耀半导体科技有限公司取得一项名为“一种薄膜沉积的反应系统”的专利，授权公告号CN224692212U，申请日期为2025年9月。

专利摘要显示，本实用新型公开了一种薄膜沉积的反应系统，包括主体，所述主体内设有反应腔，所述主体的下方设有加热源，所述反应腔内设有间隔圆块，所述间隔圆块内的中部形成沉积区，所述间隔圆块的两侧与所述主体之间分别形成气流道和排气道，所述间隔圆块位于所述气流道处开设有若干均匀分布的喷气孔，位于所述排气道处开设有若干均匀分布的排气孔。通过规则的流道和密集的喷气孔设计可将前驱体均匀送入沉积区，整体流场设计极其紧凑，另外该系统考虑到固定的进排气设计导致的流场不可优化，巧妙的设计了进排气区调整可变，通过间隔块即可调节进排气区域的大小和比例，为薄膜沉积质量提供了可调节窗。

天眼查资料显示，苏州镓耀半导体科技有限公司，成立于2022年，位于苏州市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本390.524万人民币。通过天眼查大数据分析，苏州镓耀半导体科技有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目34次，财产线索方面有商标信息1条，专利信息19条，此外企业还拥有行政许可10个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

企业投资质量薄膜导体反应排气专利苏州镓耀气流道喷气孔圆块

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