上海集成电路研发中心申请图像传感器曝光控制方法专利，提升帧率_资讯

上海集成电路研发中心申请图像传感器曝光控制方法专利，提升帧率

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2026-08-28 17:21:29

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国家知识产权局信息显示，上海集成电路研发中心有限公司申请一项名为“一种图像传感器的曝光控制方法、装置及图像传感器”的专利，公开号CN122661613A，申请日期为2025年2月。

专利摘要显示，本申请公开了一种图像传感器的曝光控制方法、装置及图像传感器，涉及图像传感器技术领域，包括：确定目标区域中的第一曝光对象与第二曝光对象；所述第一曝光对象的曝光时长与所述第二曝光对象的曝光时长不同；确定所述第一曝光对象中的第一目标对象与第二目标对象；所述第一目标对象与所述第二目标对象的曝光时长不同；确定所述第二曝光对象中的第三目标对象与第四目标对象；所述第三目标对象与所述第四目标对象的曝光时长不同；根据曝光顺序生成所述第一目标对象、所述第二目标对象、所述第三目标对象、所述第四目标对象对应的曝光信息；根据所述曝光信息控制相应的像素曝光。该曝光控制方法能够提升帧率。

天眼查资料显示，上海集成电路研发中心有限公司，成立于2002年，位于上海市，是一家以从事其他制造业为主的企业。企业注册资本30060万人民币。通过天眼查大数据分析，上海集成电路研发中心有限公司共对外投资了7家企业，参与招投标项目302次，财产线索方面有商标信息116条，专利信息2268条，此外企业还拥有行政许可88个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

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