国家知识产权局信息显示,华虹半导体(无锡)有限公司申请一项名为“改善小尺寸图像传感器像素隔离的方法”的专利,公开号CN122602612A,申请日期为2026年4月。
专利摘要显示,本发明提供一种改善小尺寸图像传感器像素隔离的方法。该方法包括:在形成浅沟槽隔离和光电二极管区域的晶圆表面,依次形成底层有机层、中间层和光刻胶层;通过光刻定义像素隔离区图案;以光刻胶层为掩膜刻蚀中间层和底层有机层,暴露出像素隔离区表面;以剩余底层有机层为阻挡层进行离子注入掺杂;最后去除掩膜层并激活掺杂离子。本发明利用三层掩膜工艺替代传统厚胶工艺,解决了小尺寸像素下厚胶光刻形貌差、关键尺寸控制难的问题。底层有机层提供了优异的刻蚀形貌和离子阻挡能力,实现了更深、更精确的电学隔离,有效降低了电荷串扰、暗电流及白像素,显著提升了图像传感器的整体性能。
天眼查资料显示,华虹半导体(无锡)有限公司,成立于2017年,位于无锡市,是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本253685.180069万美元。通过天眼查大数据分析,华虹半导体(无锡)有限公司共对外投资了1家企业,参与招投标项目2950次,专利信息2107条,此外企业还拥有行政许可119个。
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来源:市场资讯