ASM IP取得阻挡层形成方法及半导体装置制造方法专利_资讯

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2026-08-18 18:36:07

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国家知识产权局信息显示，ASM IP私人控股有限公司取得一项名为“阻挡层形成方法以及半导体装置的制造方法”的专利，授权公告号CN113496893B，申请日期为2021年4月。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

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