晋华集成电路申请光学邻近修正方法专利，改善图案区域受邻近区域影响产生的光学邻近效应_资讯

晋华集成电路申请光学邻近修正方法专利，改善图案区域受邻近区域影响产生的光学邻近效应

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2026-08-17 10:22:43

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国家知识产权局信息显示，福建省晋华集成电路有限公司申请一项名为“光学邻近修正方法、光罩组及光罩数据处理装置”的专利，公开号CN122568871A，申请日期为2026年6月。

专利摘要显示，本发明提供了一种光学邻近修正方法、光罩组及光罩数据处理装置，提供目标图案，目标图案包括第一图案和第二图案；将目标图案拆分为包括第一图案的第一版图和包括第二图案的第二版图；在第一图案的邻近区域设置第一辅助图案，以及在第二图案的邻近区域设置第二辅助图案；输出包括第一图案和第一辅助图案的第一版图为第一光罩，以及输出包括第二图案和第二辅助图案的第二版图为第二光罩。本发明改善图案区域受邻近区域影响产生的光学邻近效应，减少第一图案和第二图案转移至晶圆上产生的图案缺陷，以提高器件的可靠性。

天眼查资料显示，福建省晋华集成电路有限公司，成立于2016年，位于泉州市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本3447733.068816万人民币。通过天眼查大数据分析，福建省晋华集成电路有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目559次，财产线索方面有商标信息12条，专利信息1043条，此外企业还拥有行政许可86个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

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