无锡展硕申请双电源协同控制复合磁控溅射平台专利，显著提升靶材冷却效率_资讯

无锡展硕申请双电源协同控制复合磁控溅射平台专利，显著提升靶材冷却效率

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2026-08-05 18:21:44

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国家知识产权局信息显示，无锡展硕科技有限公司申请一项名为“一种双电源协同控制的复合磁控溅射平台”的专利，公开号CN122503824A，申请日期为2026年7月。

专利摘要显示，本发明公开了应用于镀覆技术领域的一种双电源协同控制的复合磁控溅射平台，本方案通过电源一和电源二分别独立控制两个溅射平台本体，可实现多种工作模式，使用相同或不同材料同时溅射，制备合金膜、复合膜或叠加沉积速率；使用不同材料交替溅射，制备多层膜，针对单个靶材，可选择启动局部磁控组件，仅利用靶材局部区域在基板对应区域溅射，减少靶材的浪费，适用于小尺寸基板或中心镀膜，并且，背板内部设有多个冷却腔、分流腔及控流单元，利用磁控组件的磁场驱动导磁球移动，使弹性层受压后扩大水流通道，自动实现了溅射区大流量冷却、非溅射区小流量带走传导热，实现冷却资源自动按需分配，显著提升靶材冷却效率。

天眼查资料显示，无锡展硕科技有限公司，成立于2017年，位于无锡市，是一家以从事仪器仪表制造业为主的企业。企业注册资本1500万人民币。通过天眼查大数据分析，无锡展硕科技有限公司参与招投标项目56次，专利信息57条，此外企业还拥有行政许可9个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

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