全球尖端芯片制造方式预计2030年前发生重大改变
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2026-07-13 14:17:35
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全球尖端芯片制造面临供应紧张,主流极紫外(EUV)光刻技术并非将微小晶体管印刷在硅片上的唯一路径。据美国媒体近日报道,一批有望替代EUV的前沿光刻方案正加速演进,全球尖端芯片制造方式预计在2030年前发生重大改变。

其中,原子光刻技术不使用光源,转而采用原子束在硅片上蚀刻极微小的图案。一旦实现产业化,该方法可将特征尺寸在现有EUV基础上再缩小一至两个数量级。另一项受关注的方案是X射线光刻,旨在利用更短波长的射线突破当前制程限制。

上述技术均处于研发与验证阶段,若能取得突破,将打破少数企业在尖端芯片制造领域的产能与技术集中,为下一代芯片提供新的制造路径。

市场有风险,投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成,仅供参考,不构成个人投资建议。

来源:市场资讯

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