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力冠微电子申请沉积反应腔体总成专利，有效缓解石英窗口开裂、磨损问题

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2026-07-06 13:15:05

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国家知识产权局信息显示，山东力冠微电子装备有限公司申请一项名为“一种沉积反应腔体总成、MPCVD沉积设备及使用方法”的专利，公开号CN122327197A，申请日期为2026年4月。

专利摘要显示，一种沉积反应腔体总成、MPCVD沉积设备及使用方法，属于金刚石合成设备技术领域，包括多模谐振金属腔体，多模谐振金属腔体内活动设有样品台，多模谐振金属腔体的周侧固定连接有微波馈入腔体；多模谐振金属腔体的腔壁上沿其环向间隔开设有若干狭缝，微波馈入腔体与多模谐振金属腔体之间通过狭缝连通，每个狭缝内对应集成有一个石英窗口，石英窗口的形状、尺寸与对应的狭缝相匹配。环向间隔开设的狭缝配合对应集成的石英窗口，大幅减小单个石英窗口的暴露面积，降低等离子体刻蚀影响和热负荷集中程度，有效缓解石英窗口开裂、磨损问题，且简化装配结构，降低对加工精度和装配同轴度的要求，提升装配容错率。

天眼查资料显示，山东力冠微电子装备有限公司，成立于2013年，位于济南市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本1050万人民币。通过天眼查大数据分析，山东力冠微电子装备有限公司共对外投资了3家企业，参与招投标项目83次，财产线索方面有商标信息8条，专利信息85条，此外企业还拥有行政许可10个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

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