京东方华灿光电申请发光二极管及其制备方法专利，提升出光效果_资讯

京东方华灿光电申请发光二极管及其制备方法专利，提升出光效果

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2026-06-20 12:46:39

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国家知识产权局信息显示，京东方华灿光电（广东）有限公司申请一项名为“发光二极管及其制备方法”的专利，公开号CN122248856A，申请日期为2026年3月。

专利摘要显示，本公开提供了一种发光二极管及其制备方法，属于光电子制造技术领域。该制备方法包括：提供外延片和驱动基板，所述外延片包括依次层叠的衬底、缓冲层和外延层；将所述外延层的远离所述衬底的一侧与所述驱动基板键合，并去除所述衬底；湿法腐蚀所述缓冲层，以粗化所述缓冲层的远离所述驱动基板的表面；以所述缓冲层为掩膜进行刻蚀，使所述外延层的远离所述驱动基板的表面形成粗化面。本公开实施例能在外延层上形成粗化面，且不会因湿法腐蚀而损坏外延层，以提升出光效果。

天眼查资料显示，京东方华灿光电（广东）有限公司，成立于2022年，位于珠海市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本186000万人民币。通过天眼查大数据分析，京东方华灿光电（广东）有限公司参与招投标项目31次，专利信息147条，此外企业还拥有行政许可111个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

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