本源量子申请空气桥制备方法专利，实现空气桥兼具临界电流高和抗氧化性高的目的_资讯

本源量子申请空气桥制备方法专利，实现空气桥兼具临界电流高和抗氧化性高的目的

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2026-06-03 10:22:21

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国家知识产权局信息显示，本源量子计算科技（合肥）股份有限公司申请一项名为“空气桥制备方法”的专利，公开号CN122121645A，申请日期为2024年11月。

专利摘要显示，本发明公开了一种空气桥制备方法，属于芯片制备技术领域。该空气桥制备方法包括：获取具有支撑层的衬底；形成覆盖支撑层的第一金属层；形成覆盖第一金属层的第二金属层，第二金属层的抗氧化性高于第一金属层的抗氧化性，第一金属层的临界电流高于第二金属层的临界电流；去除支撑层，获得目标空气桥。上述方法中，利用第一金属层提高空气桥的临界电流，利用第二金属层提高空气桥的抗氧化性，进而实现空气桥兼具临界电流高和抗氧化性高的目的。

天眼查资料显示，本源量子计算科技（合肥）股份有限公司，成立于2017年，位于合肥市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本3000.0008万人民币。通过天眼查大数据分析，本源量子计算科技（合肥）股份有限公司共对外投资了11家企业，参与招投标项目115次，财产线索方面有商标信息669条，专利信息2123条，此外企业还拥有行政许可6个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

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