苏州鸿盛半导体取得半导体晶元光刻曝光装置专利_资讯

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2026-05-20 10:44:26

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国家知识产权局信息显示，苏州鸿盛半导体有限责任公司取得一项名为“一种半导体晶元光刻曝光装置”的专利，授权公告号CN120315257B，申请日期为2025年5月。

天眼查资料显示，苏州鸿盛半导体有限责任公司，成立于2022年，位于苏州市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本6000万人民币。通过天眼查大数据分析，苏州鸿盛半导体有限责任公司参与招投标项目8次，专利信息34条，此外企业还拥有行政许可7个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

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