敏芯微电子申请MEMS传感器形成方法专利,提高MEMS传感器的检测精度和稳定性
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2026-05-16 00:38:27
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国家知识产权局信息显示,苏州敏芯微电子技术股份有限公司申请一项名为“一种MEMS传感器的形成方法和MEMS传感器”的专利,公开号CN122035779A,申请日期为2026年4月。

专利摘要显示,本申请公开了一种MEMS传感器的形成方法和MEMS传感器,形成方法包括:提供第一晶圆;在第一晶圆上形成第一绝缘层;提供器件晶圆,并将其与第一绝缘层键合;形成贯通器件晶圆,延伸入第一晶圆内的通孔;在通孔内填充多晶硅,以形成电连接结构;在器件晶圆上形成彼此独立的敏感结构和信号传输结构,通孔的投影位于信号传输结构的投影范围内;提供第二晶圆;将敏感结构和信号传输结构与第二晶圆键合;在第二面所在侧去除部分第一晶圆,以在第二面露出位于通孔内的电连接结构;在第二面上形成至少一个信号引出结构。本申请既能提高MEMS传感器的检测精度和稳定性,又能降低MEMS传感器的制造成本,有利于批量生产。

天眼查资料显示,苏州敏芯微电子技术股份有限公司,成立于2007年,位于苏州市,是一家以从事水利管理业为主的企业。企业注册资本5602.3107万人民币。通过天眼查大数据分析,苏州敏芯微电子技术股份有限公司共对外投资了12家企业,参与招投标项目26次,财产线索方面有商标信息9条,专利信息510条,此外企业还拥有行政许可16个。

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来源:市场资讯

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