国家知识产权局信息显示,武汉华星光电技术有限公司申请一项名为“显示面板及其制备方法”的专利,公开号CN121815908A,申请日期为2025年12月。
专利摘要显示,本申请公开了一种显示面板及其制备方法,显示面板包括基板、像素定义层和疏液层;像素定义层设置在基板上,像素定义层包括堤坝和由堤坝围绕形成的像素开口,且堤坝包括靠近像素开口一侧的侧壁;疏液层设置于堤坝的侧壁上;侧壁包括相邻接的第一子侧壁和第二子侧壁,第一子侧壁靠近基板设置,第二子侧壁位于第一子侧壁背离基板的一侧,疏液层覆盖在第二子侧壁上,且疏液层与第二子侧壁至少通过碳‑硫单键连接。本申请可以有效的改善或避免像素开口中的墨水材料向上爬坡导致的器件性能降低的问题,从而有利于提高显示面板的显示品质,还可以有效的降低疏液层的制作工艺难度,从而降低显示面板的制作成本。
天眼查资料显示,武汉华星光电技术有限公司,成立于2014年,位于武汉市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本1191853.7749万人民币。通过天眼查大数据分析,武汉华星光电技术有限公司共对外投资了1家企业,参与招投标项目687次,财产线索方面有商标信息4条,专利信息5000条,此外企业还拥有行政许可264个。
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来源:市场资讯