晶合集成获得发明专利授权:“嵌入式锗硅器件及其制备方法、电子设备”
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2026-04-04 23:09:48
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证券之星消息,根据天眼查APP数据显示晶合集成(688249)新获得一项发明专利授权,专利名为“嵌入式锗硅器件及其制备方法、电子设备”,专利申请号为CN202511704709.4,授权日为2026年4月3日。

专利摘要:本申请涉及一种嵌入式锗硅器件及其制备方法、电子设备,包括:提供衬底;衬底上包括经由衬底的第一表面向衬底内延伸的西格玛沟槽;于西格玛沟槽内表面形成缓冲层后,形成覆盖缓冲层的锗烯过渡层;锗烯过渡层包括因初始缓冲层晶格失配及局部应力形成的凸出部;采用脉冲等离子体刻蚀工艺选择性刻蚀并去除凸出部,以及凸出部覆盖的缓冲层;在相同工艺步骤中同期对缓冲层进行损伤修复,并去除锗烯过渡层;形成至少填满西格玛沟槽的锗硅籽晶层。能够避免杂质污染风险,减少缓冲层位错密度,提升硅锗生长质量。

今年以来晶合集成新获得专利授权140个,较去年同期增加了55.56%。结合公司2025年年报财务数据,2025年公司在研发方面投入了14.53亿元,同比增13.2%。

通过天眼查大数据分析,合肥晶合集成电路股份有限公司共对外投资了11家企业,参与招投标项目641次;财产线索方面有商标信息75条,专利信息1585条,著作权信息9条;此外企业还拥有行政许可26个。

数据来源:天眼查APP

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