力冠微电子申请双线圈感应PVT晶体生长装置专利,提高晶体质量
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2026-03-21 19:19:31
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国家知识产权局信息显示,山东力冠微电子装备有限公司申请一项名为“一种双线圈感应PVT晶体生长装置及使用方法”的专利,公开号CN121700508A,申请日期为2025年12月。

专利摘要显示,本发明属于晶体生长技术领域,具体公开了一种双线圈感应PVT晶体生长装置及使用方法,包括外壳,外壳的内部固定安装有保温筒,保温筒的内部设置有坩埚和坩埚盖,坩埚盖设置在坩埚的顶部;控制组件用于精准调节坩埚和坩埚盖内部温度,控制组件与外壳和保温筒相连接;上下料组件用于辅助工作人员对坩埚和坩埚盖进行拆装,上下料组件与外壳、保温筒、坩埚和坩埚盖相连接。通过设置调节组件,可以用两个加热线圈分别对坩埚上下温区进行加热,以便有效地实现对原料区和籽晶区的温度单独控制,更好地控制晶体生长时的轴向温度梯度分布,加快晶体生长的速率的同时在晶体生长结束后,可以单独对晶体进行退火处理,减少晶体内部的应力,提高晶体质量。

天眼查资料显示,山东力冠微电子装备有限公司,成立于2013年,位于济南市,是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本1050万人民币。通过天眼查大数据分析,山东力冠微电子装备有限公司共对外投资了3家企业,参与招投标项目82次,财产线索方面有商标信息8条,专利信息65条,此外企业还拥有行政许可10个。

声明:市场有风险,投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成,仅供参考,不构成个人投资建议。

来源:市场资讯

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