上海华力申请HKMG阈值电压调节方法专利，协同调控不同CPP区域的阈值电压
国家知识产权局信息显示，上海华力集成电路制造有限公司申请一项名为“HKMG的阈值电压调节方法”的专利，公开号CN121604489A，申请日期为2025年11月。
专利摘要显示，本发明公开了一种HKMG的阈值电压调节方法，包括：步骤一、完成P型金属栅的工艺环以在形成有TaN阻挡层的半导体衬底上形成图案化的功函数TiN层；半导体衬底上包括多级阈值电压区域，各级阈值电压区域的功函数TiN层的厚度不同，根据CPP不同各阈值电压区域分为多个CPP区域，CPP使各阈值电压区域内部中各CPP区域的功函数TiN层的厚度产生第一差异。步骤二、采用WCl5进行TaN对TiN的刻蚀选择比大于1的选择性刻蚀，选择性刻蚀中，CPP会对功函数TiN层的刻蚀厚度产生第二影响以使第一差异减少。步骤三、形成功函数TiAl层。本发明能协同调控不同CPP区域的阈值电压、降低功函数材料的填充厚度、有效扩大功函数材料填充窗口并扩大阈值电压可调控范围和扩大可靠性测试窗口。
天眼查资料显示，上海华力集成电路制造有限公司，成立于2016年，位于上海市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本2960000万人民币。通过天眼查大数据分析，上海华力集成电路制造有限公司参与招投标项目2095次，专利信息2753条，此外企业还拥有行政许可397个。
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来源：市场资讯
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