北方华创申请加热灯组件和半导体工艺腔室专利，解决晶片沉积膜层平坦度问题_资讯

北方华创申请加热灯组件和半导体工艺腔室专利，解决晶片沉积膜层平坦度问题

创始人

2026-03-04 09:15:41

0次

国家知识产权局信息显示，北京北方华创微电子装备有限公司申请一项名为“加热灯组件和半导体工艺腔室”的专利，公开号CN121593036A，申请日期为2024年8月。

专利摘要显示，本发明公开一种加热灯组件和半导体工艺腔室，所公开的加热灯组件应用于半导体工艺腔室，所述半导体工艺腔室包括腔室本体和基座，所述基座设于所述腔室本体内，所述加热灯组件包括沿第一方向排列的多个条形加热灯和与所述多个条形加热灯一一对应设置的多个透镜，其中：所述透镜位于所述条形加热灯与所述腔室本体之间，所述透镜用于使对应的所述条形加热灯照射至所述透镜的光线平行地射向所述基座。上述方案可以解决相关技术中存在的晶片沉积的膜层无法满足平坦度的要求的问题。

天眼查资料显示，北京北方华创微电子装备有限公司，成立于2001年，位于北京市，是一家以从事电气机械和器材制造业为主的企业。企业注册资本114153.708311万人民币。通过天眼查大数据分析，北京北方华创微电子装备有限公司共对外投资了7家企业，参与招投标项目1388次，财产线索方面有商标信息67条，专利信息5000条，此外企业还拥有行政许可340个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

企业投资半导体基座华创组件工艺专利北京透镜腔室加热灯条形

上一篇：全球大公司要闻 | 英伟达GTC大会聚焦AI芯片，“三桶油”齐发风险提示

下一篇：宁波天波港联电子取得带注塑定位结构的电磁继电器专利，提高了衔铁组件行程一致性

北方华创申请加热灯组件和半导体工艺腔室专利，解决晶片沉积膜层平坦度问题

相关内容

热门资讯