上海集成电路研发中心申请图像传感器及其制备方法专利，减小图像传感器的光信号串扰_资讯

上海集成电路研发中心申请图像传感器及其制备方法专利，减小图像传感器的光信号串扰

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2026-03-03 09:12:15

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国家知识产权局信息显示，上海集成电路研发中心有限公司申请一项名为“图像传感器及其制备方法”的专利，公开号CN121604537A，申请日期为2024年8月。

专利摘要显示，本申请涉及一种图像传感器及其制备方法。该图像传感器包括第一感光芯片、第一支撑围墙与透光盖板，第一感光芯片包括感光区与非感光区，非感光区环绕感光区，感光区设置有N个感光元件，N个感光元件分别用于感测不同目标波段的光，N个不同的目标波段互不重叠，第一支撑围墙位于非感光区上，且环绕感光区上方的空间，透光盖板位于第一支撑围墙远离第一感光芯片的一侧，透光盖板包括工作区，感光区在透光盖板上的投影位于工作区内，工作区包括N个透光子区域，N个透光子区域的位置与N个感光元件的位置一一对应，N个透光子区域分别用于仅允许不同目标波段的光透过。本申请的技术方案，可以减小图像传感器的光信号串扰。

天眼查资料显示，上海集成电路研发中心有限公司，成立于2002年，位于上海市，是一家以从事其他制造业为主的企业。企业注册资本30060万人民币。通过天眼查大数据分析，上海集成电路研发中心有限公司共对外投资了7家企业，参与招投标项目296次，财产线索方面有商标信息103条，专利信息2165条，此外企业还拥有行政许可88个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

企业方法投资感光盖板图像传感器信号集成电路专利感光区图像传感器感光元件光子

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