特创电子申请印制电路板LDI曝光监控方法专利,避免LDI曝光设备镜头形成水雾
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2026-03-02 14:14:04
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国家知识产权局信息显示,惠州市特创电子科技股份有限公司申请一项名为“印制电路板LDI曝光监控方法、装置、计算机设备和存储介质”的专利,公开号CN121578597A,申请日期为2025年10月。

专利摘要显示,本公开提供一种印制电路板LDI曝光监控方法、装置、计算机设备和存储介质。所述方法包括获取印制电路板的镜头曝光工况参数;将镜头曝光工况参数与预设曝光参数进行曝光似然处理,以得到曝光工况损失;根据曝光工况损失向LDI曝光中控器发送热机失使信号,以调节LDI曝光设备的热机模式。在对镜头曝光工况参数采集后,对印制电路板的当前曝光工作状态进行确定,之后将镜头曝光工况参数与标准的曝光工况参数进行比对,便于确定印制电路板的曝光工作状态差异情况,最后根据上述差异情况,对印制电路板的热机模式进行调整,以对印制电路板的曝光工作条件进行反馈调节,使得LDI曝光设备用于曝光的镜头内部保持干燥,避免形成水雾。

天眼查资料显示,惠州市特创电子科技股份有限公司,成立于2010年,位于惠州市,是一家以从事通用设备制造业为主的企业。企业注册资本5510.6257万人民币。通过天眼查大数据分析,惠州市特创电子科技股份有限公司共对外投资了7家企业,参与招投标项目14次,财产线索方面有商标信息27条,专利信息232条,此外企业还拥有行政许可28个。

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来源:市场资讯

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