华芯程申请掩膜图光学邻近校正方法专利，有利于提升基于该掩膜图进行半导体光刻的加工精度_资讯

华芯程申请掩膜图光学邻近校正方法专利，有利于提升基于该掩膜图进行半导体光刻的加工精度

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2026-02-28 10:41:56

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国家知识产权局信息显示，华芯程（杭州）科技有限公司申请一项名为“掩膜图的光学邻近校正方法、装置、设备及存储介质”的专利，公开号CN121578581A，申请日期为2026年1月。

专利摘要显示，本发明涉及半导体加工工艺技术领域，公开了一种掩膜图的光学邻近校正方法、装置、设备及存储介质，该掩膜图的光学邻近校正方法包括对待加工晶片的抛光面进行形貌预测，获得抛光面形貌信息；根据所述抛光面形貌信息对仿真光学模型中的焦平面参数进行修正；利用修正后的所述仿真光学模型，对初始掩膜图案进行光学邻近校正，以获得校正后的掩膜图。本申请中先对待加工晶片的抛光面形貌信息进行了预测，并以此为依据对仿真光学模型中的焦平面参数进行修正，保证了基于该仿真光学模型实现初始掩膜图案的光学邻近校正的准确可靠性，有利于提升基于该掩膜图进行半导体光刻的加工精度。

天眼查资料显示，华芯程（杭州）科技有限公司，成立于2021年，位于杭州市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本1010.688237万人民币。通过天眼查大数据分析，华芯程（杭州）科技有限公司共对外投资了6家企业，参与招投标项目2次，财产线索方面有商标信息63条，专利信息161条，此外企业还拥有行政许可3个。

声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。

来源：市场资讯

企业方法进行华芯程投资信息光学导体专利加工抛光面掩膜图掩膜

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