国家知识产权局信息显示,国巨电子(中国)有限公司申请一项名为“一种新型抗锡裂的贴片电阻及其制作工艺”的专利,公开号CN121565605A,申请日期为2025年12月。
专利摘要显示,本发明公开了一种新型抗锡裂的贴片电阻及其制作工艺,包括基板,基板正面与背面分别覆盖的正面电极和背面电极,以及外侧包裹的保护层和电镀层,电阻层设置于所述正面电极与保护层之间,其特征在于:所述背面电极下方设置有导体层,所述导体层的尺寸小于所述背面电极的尺寸,使得包裹背面电极外的所述电镀层与焊盘底板形成30~60度的斜面夹角,其制作工艺在于:在背面电极上印刷导体层,导体层靠近外侧的一边与基板外侧边平齐,内侧一边收缩在背面电极内侧,形成高度差阶梯。本发明通过导体层的设置,在电阻背导与锡膏的接触面由平面变为立体曲面,有效面积提升;增大的接触面为焊料提供多通道流动路径,降低了气泡率,有效提升抗锡裂能力。
天眼查资料显示,国巨电子(中国)有限公司,成立于1996年,位于苏州市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本30197.7万美元。通过天眼查大数据分析,国巨电子(中国)有限公司参与招投标项目43次,专利信息102条,此外企业还拥有行政许可33个。
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来源:市场资讯